HJFA羟基深度氧化技术
来源： 阅读：6596 更新时间：2012-03-08 09:52HJFA羟基深度氧化技术是国内首家实现在电、磁、气综合场条件下完成常温常压下调动羟基自由基•OH，并进入工程化获得成功的专利技术，是一个跨越式的创新。相对于传统的深度氧化技术（湿式氧化WAO、催化湿式氧化CWAO、超临界水氧化SCWO、催化超临界水氧化SCWAO等），HJFA羟基深度氧化技术不需要苛刻的高温高压条件，大大简化设备要求和运行安全要求。该技术选择各类非均相催化剂作为膨化床主体，在常温、常压条件下运行避免了各种催化剂在高温高压下溶出失活的通病，确保了催化剂的长效长寿。
HJFA羟基深度氧化技术是基于氧化电位高达2.80V的羟基自由基•OH的强氧化作用，及随之诱发的各种活性自由（•O、•O2、 •H2O等）的链式反应。由于羟基自由基•OH生成后继而诱发的各类自由基具有无选择性攻击分子链中双键的特性，因此对芳香化合物及其上的各类取代基具有强力的开环与脱除能力，实现了真正意义上的深度氧化（AOP），且氧化速度快，氧化效率高，可大幅度节约工程用地，降低吨水运行费用。该项技术在高浓度，难降解的制药、化工、农药、焦化、染料化工等工业污水的治理中显示强劲的工程优势。
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