新型光化学气相沉积薄膜制备系统
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人气：1538 发布时间：2009-05-08 10:53 关键词：其它 产品型号： 应用领域：水处理 产品价格：面议 想了解更多产品详情，请 |
准分子光诱导化学气相沉积的独特优点：
1、高效单色准分子紫外光源
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有为高效准分子真空紫外光源提供高光强的单色紫外光能有效实现在传统紫外光源下根本不能产生的化学反应。
2、化学柔性和机械无损加工过程，不象等离子体方法和高温热方法伤害膜表面性能。
3、低温成膜过程，化学反应活化能低，具有极快的反应速率。
4、成膜均匀，薄膜质量和性能比拟和超过热化学气相沉积法。
5、光源可瞬间开启和熄灭
可根据需要发射所需光能,且能随时瞬间开启熄灭,不需要用快门。
6、高效节能，安装灵活，超作简便。
二、主要技术指标*:
1、光源腔：准分子真空紫外（按用户要求配置）
2、反应腔/样品台尺寸：2英寸或4英寸晶圆
3、极限真空度：≤7×10－7mbar（按用户要求配置）
4、沉积温度：200-450oC
5、温度精度：±2℃
6、膜厚均匀度：≤±3％
7、工艺压强范围：0.1-3 mbar
8、参考生长速度：6 nm/min（Ta2O5膜）
9、气体：4-10路，质量流量控制器控制
10、真空系统配置：分子泵+机械泵（可选）
11、样品台转动方式：静止/运动（可选）
12、冷却系统：水冷
三、应用领域：
1、 用于制备半导体行业生产所须的SiO2，Si3N4薄膜。特点是成膜温度底、速度快、薄膜质量好。尤其适用于高性能薄膜研究及新材料科学研究工作。
2、Si和SiGe的光氧化。
3、高和低介电常数（high-k，low-k）薄膜的制备：Ta2O5，TiO2，PZT，ZrO2，HfO2，TaON和HfON等。
4、薄膜表面改性,光退火.
四、产品说明：
1、光源腔：配置不同光源或其组合。
1、反应物母体传送喷射系统。
1、反应室：各种薄膜的沉积。
2、真空获得及测量系统：提供材料沉积工艺条件。
3、电器控制系统：精密控制温度、转速。
4、气路控制系统。
5、此设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便等优点，配备高精度控制基片加热台、自动控温、具有无污染、放气量小和温度均匀等特点。
