半导体厂含氟废水的深度处理
更新时间：2009-01-17 11:30
来源：中国环保频道
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将高浓度含氟废水处理到10mg / L较容易，但进一步处理到3mg / L以下就比较困难。本文报道了将半导体厂含氟废水用药剂混凝法处理到3mg /L以下的方法一系列实验结果表明，pH是影响除氟的最主要的因素。
1前言
离子交换法除去水中氟可使F一达到比较低的浓度，但此法操作麻烦、成本高。工业废水中通常用药剂混凝法除氟。按国家标准(GB8978 - 88)要求，处理后的废水含氟量在10mg/L以一F即达到排放标准。目前有关除氟的文献多是研究将废水处理到F一含量为lOmg /L的方法r1，有人报道过用3000mg/L的FeC13可将300mg/L含氟废水处理到5.4mg/L。
广州半导体厂面临珠江、靠近广州自来水厂水源。该厂每天排放约35t含氟水。原废水pH值2-3，含氟量为25-75mg/L。该厂采用石灰一氯化钙一铝盐等药剂处理，但由于工艺条件掌握得不好，除氟效果差，处理后的废水中仍含F-10-20mg/L，这样对水厂水源造成威胁。现在环保部门要求该厂排放废水中的F-含量控制在3mg压以下。我们在不改变该厂所使用药剂的前提下，对除氟的深度处理工艺条件进行新的探索，并探讨了混凝法深度除氟的作用机理。
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