半导体芯片厂超纯水
来源：上海汉华水处理工程有限公司 阅读：2711 更新时间：2008-12-01 15:05| 详细信息 | |||||
| 项目名称 | 半导体芯片厂超纯水 | ||||
| 建设地点 | 建设起始时间 | 建设结束时间 | |||
| 建设性质 | 新建 | 工程投资 | 废水性质 | ||
| 处理规模 | 进水水质 | 出水水质 | |||
| 处理工艺 | 运行费用 | 承包范围 | |||
工程说明
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半导体芯片厂超纯水 TOC<10ppb 颗粒度（PARTICLE）达0.5um≤200PCS/L 二氧化硅SiO2<5ppb 电阻率≥18MΩ.cm(25℃) 采用高纯度PVDF管路 |
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